시설현황
기관건물
- 제2반도체공정실(전력반도체 & CMOS Cleanroom)
- 건물 규모 : 지하 1층, 지상 2층
- 면적 개요 : 총 2,100㎡(크린룸 835㎡, Class 100~1000) System sealing type의 3개층 크린룸 구축
- 제1반도체공정실(MEMS, Sensor & display Cleanroom)
- 반도체공정실 : 크린룸(Class 100~1000) 총 430㎡
- 반도체소자 측정실 : Semi-Cleanroom 총 90㎡ - 주요 측정장비 : FE-SEM , AES, PL, AFM 등
보유장비
분류 | PHOTO | Doping | CVD | PVD | Etch | 측정/분석 | Packaging | Simulation | 계 |
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보유수 | 10종 | 11종 | 9종 | 5종 | 19종 | 19종 | 7종 | 5종 | 85종 |
크린룸 환경
ROOM | CLASS(EA/ft3) | 온도(℃) | 습도(%) | 조도(LUX) | 면적(㎡) |
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YELLOW ROOM | 100 | 22±1 | 45±3 | 600 | 66 |
CLEAN ROOM | 1,000 | 22±1 | 45±3 | 500 | 185 |
SERVICE AREA | 100,000 | 22±3 | 45±5 | 500 | 277 |
LOCKER ROOM | 100,000 | 22±3 | 45±5 | 500 | - |
일반 ROOM | N/S | 22±3 | - | 300 | - |
1)CLEAN ROOM 청정도 규격 : 미연방규격(U.S FEDERAL STAND)
2)CLASS : 100~1000(0.3um 기준)
2)CLASS : 100~1000(0.3um 기준)