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시설현황

기관건물

  • 제2반도체공정실(전력반도체 & CMOS Cleanroom)
    • 건물 규모 : 지하 1층, 지상 2층
    • 면적 개요 : 총 2,100㎡(크린룸 835㎡, Class 100~1000) System sealing type의 3개층 크린룸 구축
  • 제1반도체공정실(MEMS, Sensor & display Cleanroom)
    • 반도체공정실 : 크린룸(Class 100~1000) 총 430㎡
    • 반도체소자 측정실 : Semi-Cleanroom 총 90㎡ - 주요 측정장비 : FE-SEM , AES, PL, AFM 등

보유장비

분류 PHOTO Doping CVD PVD Etch 측정/분석 Packaging Simulation
보유수 10종 11종 9종 5종 19종 19종 7종 5종 85종

크린룸 환경

ROOM CLASS(EA/ft3) 온도(℃) 습도(%) 조도(LUX) 면적(㎡)
YELLOW ROOM 100 22±1 45±3 600 66
CLEAN ROOM 1,000 22±1 45±3 500 185
SERVICE AREA 100,000 22±3 45±5 500 277
LOCKER ROOM 100,000 22±3 45±5 500 -
일반 ROOM N/S 22±3 - 300 -
1)CLEAN ROOM 청정도 규격 : 미연방규격(U.S FEDERAL STAND)
2)CLASS : 100~1000(0.3um 기준)